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国产算力核心环节简报

核心结论

国产算力已成为产业核心主线，其中光刻机作为半导体制造最关键的设备之一，是国产算力发展的核心环节。随着AI等领域需求持续增长，国产替代空间巨大，相关产业链企业迎来发展机遇。

关键信息

• 市场预测：据Gartner预测，到2030年，国内80%的AI基础设施将采用国产芯片，而当前国产化渗透率仅20%，意味着未来五年存在60个百分点的巨大替代空间。
• 光刻机地位：光刻机是半导体制造过程中最关键的设备之一，单台价值量高达上亿美元，其购置成本占半导体设备总投资的20%以上，是芯片制造前道工艺七大设备之首。
• 行业驱动力：AI芯片、高性能计算等领域的强劲需求，持续推动半导体行业的资本开支增长。

潜在影响

• 结构性机遇：Agent爆发、Token经济成型以及千行百业的智能化落地，为国产算力带来了跨越周期的结构性机遇，不再仅仅是“海外芯片平替”。
• 产业链拉动：光刻机核心环节的国产化进程加速，将直接带动上游光学器件、精密组件等细分领域的市场需求增长。

关注要点

• 国产替代进程：密切关注国产光刻机及核心零部件的技术突破和量产进度，以及国产芯片在基础设施中的渗透率提升情况。
• 相关企业订单：关注在光刻机产业链中，特别是对准系统、照明系统、光学器件等核心环节有布局的企业的订单获取情况。

关联个股

• 永新光学：产品应用于光刻设备、半导体光学量/检测设备等关键制程装备，并切入光刻机对准系统、照明系统等核心环节，在手订单快速增加。
• 波长光电：光刻机相关业务属于半导体及泛半导体领域，产品包括反射镜、聚焦镜、场镜等光学元器件以及平行光源和小型光学系统，应用于接近式掩膜光刻、直写光刻、封装测试、半导体量检测等场景。
• 茂莱光学：为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的核心模块。

【盘中宝】国产算力核心环节，该行业是细分领域制造过程最关键设备之一，AI等领域强劲需求持续推动行业资本开支增长，这家企业在手订单快速增加

盘中宝

2026.07.28 09:05 星期二

财联社资讯获悉，媒体报道，日前，在商汤科技基座大模型架构创新与生态合作论坛上，商汤科技董事长兼CEO徐立表示，据Gartner预测，2030年国内80%AI基础设施将采用国产芯片，当前国产化渗透率仅20%，这60个百分点的替代空间，将构成未来五年产业核心主线。长久以来，市场将国产算力视作“海外芯片平替”，但Agent爆发、Token经济成型、千行百业智能化落地，又为国产算力带来了跨越周期的结构性机遇。

一、光刻机系国产算力的核心环节

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平安证券表示，光刻机系国产算力的核心环节。光刻机是半导体制造过程中最为关键的设备之一，其单台价值量高达上亿美元，其购置成本达到半导体设备总投资的20%以上，是芯片制造前道工艺七大设备之首。光刻机决定了芯片晶体管尺寸的大小，从而直接影响芯片性能和功耗。AI芯片、高性能计算等领域的强劲需求持续推动半导体资本开支的增长。

二、相关上市公司：永新光学、波长光电、茂莱光学

永新光学产品广泛应用于光刻设备、半导体光学量/检测设备等关键制程装备，并切入光刻机对准系统、照明系统等核心环节，在手订单快速增加。

波长光电表示，根据公司内部的营业收入分类口径，光刻机相关业务属于公司的半导体及泛半导体领域收入类别，产品主要包括反射镜、聚焦镜、场镜等一些光学元器件以及平行光源和一些小型光学系统，应用场景有接近式掩膜光刻、直写光刻、封装测试、半导体量检测等。

茂莱光学为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的核心模块。

关联个股

茂莱光学

波长光电

永新光学 --