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【电报解读】三星电子确认HBM5将采用2纳米GAA工艺,机构测算HBM存储测试机需求约为传统DRAM的......

2026-07-27 20:32 默认源

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AI 简报

好的,这是根据您提供的原文生成的金融简报。

【金融简报】三星HBM5新工艺与存储测试设备机遇

核心结论

三星电子确认下一代HBM5内存将采用2纳米GAA工艺,性能大幅提升。技术迭代驱动下,HBM存储测试机需求约为传统DRAM的5-6倍,为国产存储测试设备厂商带来结构性增长机遇。国内相关公司已取得关键验证与批量销售业绩。

关键信息

  • 三星HBM5技术路径确认:三星电子确认下一代HBM5内存将采用GAA结构的2纳米工艺基础芯片,其运行速度预计将比HBM4E快50%以上,并计划在HBM4(4纳米工艺)的经验基础上提前引入该先进工艺。
  • HBM技术演进三大主线
  • 传输速率提升:从HBM2的2.0Gbps提升至HBM3e的8.0Gbps以上,提升约4倍。
  • 堆叠层数与容量扩展:从HBM2的4-8GB容量及4/8层堆叠,演进至HBM3e的24-48GB及12层,并向16层演进。
  • 通道架构升级:通道数量从8通道(HBM2)升级至16通道(HBM3/3e),并将进一步扩展至32通道(HBM4)。
  • 产业链动态
  • 海外龙头量产:SK海力士HBM4已量产,HBM4e提前交付;三星2026年初获HBM4订单并启动量产;美光HBM4于2026年一季度量产。
  • 国内追赶:长鑫存储预计于2027年实现HBM3e量产,正积极扩产追赶。
  • 测试设备需求激增:由于HBM采用3D堆叠和逻辑芯片,其测试流程显著增加。除传统DRAM晶圆测试外,新增逻辑芯片验证和堆叠后的KGSD测试,导致测试道数从3-4道提升至15道以上。因此,HBM存储测试机需求约为传统DRAM的5-6倍。

潜在影响

  • 利好国产测试设备:随着国内存储大厂(如长鑫存储)扩产和高端产品(DDR5、HBM)加速迭代,国产设备商有望深度参与客户的研发与量产过程,通过积累数据与经验,逐步建立技术壁垒,加速实现存储测试设备的国产替代。
  • 技术创新驱动投资:HBM等高性能存储的技术快速发展是驱动全球半导体设备市场增长的核心动能之一,特别是对先进逻辑、存储及先进封装领域的投资需求将持续旺盛。

关注要点

  • 三星HBM5的量产时间表:正式量产时间及良率爬坡情况,将直接影响相关设备和材料供应链。
  • 国内HBM量产进度:长鑫存储HBM3e的量产时间节点及其对国产设备的需求规模。
  • 测试设备国产化验证进程:关注长川科技、精智达等公司的产品在国内主流存储厂商处的验证结果和批量订单落地情况。

关联个股

  • 长川科技
  • CP12-Memory探针台正处于客户端验证阶段。
  • 精智达
  • 公司探针卡产品已通过国内主要半导体存储器件厂商验证,并取得了批量销售业绩,已成为其第二供应商。